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Nouvelles de l'industrie
Le ministère de la Science et la technologie nouvelle technologie matérielle de demande de projet cible Ultra élevées d’aluminium pur
Nov 10, 2016


Selon le ministère des sciences et technologies nouvelles : Depot physique en phase vapeur (PVD) est l’une des technologies clés de puce semi-conductrice et processus de production de TFT-LCD, PVD de pulvérisation cathodique cible métallique est une des plus importante production de puces de semi-conducteurs et préparation de TFT-LCD lors du traitement des matières premières, la quantité de métal cible de pulvérisation est la cible d’alliage d’aluminium pure aluminium pur super haute et très haute plus grande.


Ainsi, la technologie de fabrication clé de grande taille, mis au point avec les droits de propriété intellectuelle indépendante de la cible de l’aluminium pur ultra élevé, développer l’industrie des semi-conducteurs et demande de l’industrie de TFT-LCD pour produits cible ultra élevées d’aluminium pur, a une importance pour le développement de ses industries connexes en Chine.


Juste, équitable et ouvrir la sélection de l’unité de projet, entièrement mobiliser l’enthousiasme des entreprises, instituts de recherche scientifique et les universités, l’intégration nationale en aluminium raffinage, grande taille en aluminium plaque déformation et de la pulvérisation cible métallique préparation et autres avantages dans le domaine des professionnels R andamp ; D développement des travaux de ce projet, le ministère a publié un andquot ; le national haute technologie recherche et développement (programme 863) nouveau matériel technologyandquot ; cible de l’aluminium pur ultra haut grande taille andquot clés du projet de technologie de fabrication ; guide d’application.


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